離子源

離子源以電子轟擊電離(EI) 或化學電離(CI) 模式工作。樣品從GC/MSD 接口進入離子源。
燈絲發(fā)射的電子由磁場引導進入離子化室。高能電子與樣品分子相互作用，使之離子化和
碎裂。推斥極的正電壓將正離子推向透鏡組，這里它們要經過幾個靜電透鏡。這些透鏡將
離子聚焦成離子束，然后進入質量過濾器。

電子轟擊(EI) 離子源

建議用于EI 離子源清潔的材料是砂紙，氧化鋁粉末。

不要將燈絲或透鏡絕緣體浸入到溶劑中。如果絕緣體臟了，要用棉簽蘸上試劑級甲醇清
洗。如果這樣做不能清潔絕緣體，就更換之。

化學電離(CI) 源

因為CI 源的操作壓力遠比EI 源高，故與EI 相比，需要更經常地清洗。

只要出現與離子源污染相關的性能異常就應該清洗離子源。將分析性能作為您的指示。

當清洗CI 源時，要特別注意CI 推斥極、離子源體和拉出極板。確保清洗離子源體和拉出極
板上的0.5 mm 直徑的孔。

清洗該離子源的方法非常類似于清洗EI 離子源的方法。采用EI 的清洗操作步驟，以下內容
除外：

? CI 離子源可能看起來不臟，但是，化學電離留下的沉積物非常難以除去。徹底清洗CI 離
子源
? 使用圓形木質牙簽輕輕擦拭離子源體上的電子入口孔和拉出極板上的離子出口孔
? 不能使用鹵代溶劑。最后一步清洗要使用己烷